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第611章 图穷匕见（第1页）

没有人能想到，光刻工厂居然引起了这么大的反应。

但是，当这件事情真的发生了之后，就没有人还能控制得住了。

风车国的阿斯麦也罕见地站了出来，对于光刻工厂方案进行评价。

作为目前光刻设备领域的龙头企业。

更是占据市场主流的巨无霸。

阿斯麦毫无疑问是这个领域的权威。

所以阿斯麦说出来的内容，自然就带有极强的权威性。

“尊敬的业界同仁和合作伙伴：近期，我们注意到某些市场传闻称，某些企业正试图通过所谓的‘光刻工厂’方案，即利用大型同步辐射光源设施替代传统euv光刻机，来‘绕开’全球半导体产业的技术壁垒，作为全球光刻技术的领导者，asml有必要从技术规律与产业现实出发，对此类设想提出专业质疑。”

“一、技术可行性：物理定律的边界不可逾约……”

“光源本质差异，同步辐射光源的物理特性与euv光刻所需的13.5nm高功率、高稳定性激光等离子体光源存在根本性矛盾……”

“系统集成灾难，光刻机是10万级精密零件的系统集成艺术，而“光刻工厂”

试图将光源、光学系统、掩模台、晶圆台等模块分散于百米级设施中，震动、温度、尘埃控制等基础工程问题足以摧毁任何纳米级的精度要求……”

“二、商业逻辑：背离产业规律的空想。”

“成本黑洞，同步辐射光源的建设与维护成本高达百亿，且单词暴光能耗堪比小型城市用电量，反观asml的euv光刻机，虽单价1.5亿欧元，但其每小时处理300片晶圆的效率已摊薄至每片芯片成本可忽略不计。

若“光刻工厂”

量产7nm芯片，其单位成本将是现有技术的千倍以上。”

“产业链割裂，半导体制造是全球化分工的典范。

asml的euv光刻机依赖德-国蔡司镜头、白头鹰联盟国的cymer激光器、樱国的光刻胶等5000余家供应商的协同创新。

所谓“光刻工厂”

试图以举国之力重构全链条，但即便抛开技术障碍，其供应链效率也将落后国际水平至少15年——正如华-国的28nmduv光刻机仍无法实现asml2007年twinscanxt:1900gi的可靠性与吞吐量。”

“三、战略误判：对产业生态的破坏性冲击。”

“扰乱市场秩序。

来自华国的订单占asml全球营收的25%，且需求集中于成熟制程。

若强行将资源倾注于违背物理规律的技术路径，不仅将导致本土晶圆厂丧失竞争力，更可能引发全球成熟制程产能过剩危机。”

“知识产权风险：asml已监测到多起来自某国企业工程师通过逆向工程、专利规避手段模仿duv光刻机的案例，若“光刻工厂”

依赖类似策略，其知识产权纠纷将重创该国半导体产业的国际信誉。”

“最后，我们再次重申一下我们的立场，合作优于对抗。”

“我们理解各国对技术自主的渴望，但是半导体产业需要理性和敬畏，asml的high-naeuv光刻机已实现8nm线宽，且每瓦曝光效率提升20%，这才是产业公认的下一代方向。

我们呼吁全球客户回归商业本质：与其寄希望于投资数百亿于“光刻工厂”

这类科幻项目，不如与asml共同优化成熟制程生态。”

“物理定律没有国界，但违背规律的技术豪赌终将付出代价。”

当这么一篇出自阿斯麦首席技术官迪诺的公开声明出现在网上的时候。