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第617章 全球瞩目开始验证（第3页）

随着王东来这一声令下。

电闸顿时合上。

辐射光源也逐渐开始运行起来。

芯片的诞生，要经历的流程很多。

而光刻就是芯片制造至关重要的一个环节。

光刻技术最早于1958年开始应用，并实现了平面晶体管的制造，也是ic制程中最重要的模块。

光刻的过程是在硅片表面上匀胶，然后将掩模版上的图形转移到光刻胶上的过程，是将器件或电路结构临时“复制”

到硅片上的过程。

光刻在整个硅片加工成本中几乎占三分之一。

光刻占40%到50%的流片时间，它决定晶圆最小特征尺寸。

半导体硅片在进行光刻之前有一系列清洗、涂光刻胶等过程，光刻后还有显影、清洗等工艺。

这一次的技术验证，自然不可能从最开始的环节开始。

前期的材料自然是早就准备好了，单晶硅棒已经被切割成了薄片。

这一点，国内的单晶硅和晶圆片，也已经取得了一定的突破。

值得多提一句的是，这一次使用的正是来自魔都新胜半导体生产的。

至于设计者张如京也在今年从魔都新胜半导体离职，加入了银河科技。

除了张如京的加入，还有梁松等多位大佬的加入。

这些大佬的加入，也极大地帮助了王东来在这方面的突破。

不然的话，除非是发展机器人，采取黑灯工厂模式，用娲来全面接管，才能这么顺利完成。

而要是这么做的话，所展现出来的人工智能就太惊人了，所以王东来根本就没有这么想过。

所幸，有了这些大佬的加入，这方面的研发也有了很大的进步。

王东来能说出年底能进行技术验证的一部分底气，便是这些大佬。

这一次的光刻工厂项目，因为引起了海外半导体巨头的恶意针对，所以从银河科技单独制造，变成了举国之力攻克。

在很多地方，也打乱了王东来的设计。

同时，也节省了王东来很多的功夫。

毕竟，国内的半导体技术再落后，那也是有的。

一些细分领域的技术，比之国际顶尖水平，也只是稍差一点罢了。

这些技术被王东来进行统合，再加以改良之后，所展现出来的水平已经追赶上国际先进水平。

就像是这一次要测试的芯片，就是一款基于x米自主研发的澎湃芯片。

x米在这上面，投入了大量的资金和人力。

不过，效果并不理想。

雷布斯都准备撤掉这个研发项目了。

恰好就遇到了这个事情。

雷布斯当时第一个站出来表态支持银河科技，反对国外半导体巨头的不公平合作，就算是出于x米自身利益的考量考虑，但是也对银河科技有所恩情。

王东来是个知恩图报的人。

所以，就定下了这个计划。

帮助雷布斯把澎湃芯片研发出来，攻克7nm工艺。

“领导，这是x米的澎湃芯片，在今年2月份的时候，x米推出了澎湃s1，采用的是28纳米工艺制程，最高主频达2.2吉赫兹。”

“但是，放眼全球，这个工艺水平其实相当落后了。”